免费精品无码一级毛片,97亚洲熟妇自偷自拍另类图片,国产99高清一区二区,亚洲人妻性感视频第二页

歡迎訪(fǎng)問(wèn)揚州欣達電子有限公司網(wǎng)站! 關(guān)于我們 聯(lián)系我們

專(zhuān)注于薄膜開(kāi)關(guān),薄膜面板等研發(fā)與生產(chǎn)

安全省心,有效控制成本

img

咨詢(xún)電話(huà):

0514-86859177

img

咨詢(xún)電話(huà):

13805251384

PRODUCT CENTER
產(chǎn)品中心
行業(yè)資訊
企業(yè)動(dòng)態(tài)
技術(shù)文章
咨詢(xún)熱線(xiàn)

0514-86859177

技術(shù)文章

薄膜層一島結合生長(cháng)模式

 層狀一島狀結合生長(cháng)(又稱(chēng)Stranski-Krastanoy)模式。在最開(kāi)始一兩個(gè)原子層厚度的層狀生長(cháng)之后,生長(cháng)模式轉化為島狀模式。導致這種模式轉變的物理機制較復雜,往往在基片和薄膜原子相互作用特別強的情況下,才容易出現這種生長(cháng)模式。首先在基片表面生長(cháng)1層一2層單原子層,這種二維結構強烈地受到基片晶格的影響,晶格常數有較大的畸變。然后再在這原子層上吸附入射原子,并以核生長(cháng)的方式生成小島,最終形成薄膜。在半導體表面上形成金屬薄膜時(shí),常常是這種層一島生長(cháng)型,如在Ge的表面蒸發(fā)Gd,在Si的表面蒸發(fā)Bi,Ag等都屬這種類(lèi)型。